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環(huán)氧復(fù)合絕緣材料的擊穿強(qiáng)度與沿面閃絡(luò)電壓測試條件概述:

更新時(shí)間:2026-01-15      點(diǎn)擊次數(shù):188

標(biāo)準(zhǔn)依據(jù):GB/T1408.1—2016

測試對象:摻雜不同Na+質(zhì)量分?jǐn)?shù)的氧化鋁填料環(huán)氧復(fù)合材料,樣品為直徑100mm、厚度1mm的圓片。

升壓速度:2,000V/s(短時(shí)電場)和100V/s(長時(shí)電場)。

數(shù)據(jù)處理:結(jié)果采用威布爾分布表示,取63.2%擊穿概率下的值進(jìn)行分析。

一、擊穿強(qiáng)度

關(guān)鍵結(jié)果:

1.短時(shí)電場(2000V/s):Na+質(zhì)量分?jǐn)?shù)在0.02%0.04%時(shí),擊穿強(qiáng)度相對穩(wěn)定;超過此范圍(0.06%0.12%),擊穿強(qiáng)度開始逐漸下降。

2.長時(shí)電場(100V/s):擊穿強(qiáng)度隨Na+質(zhì)量分?jǐn)?shù)的增加顯著且持續(xù)下降。例如,Na+質(zhì)量分?jǐn)?shù)從0.02%增至0.12%時(shí),擊穿強(qiáng)度從30.9kV/mm降至25.4kV/mm,降幅達(dá)5.5kV/mm

主要結(jié)論:

長時(shí)電場下Na+對擊穿強(qiáng)度的削弱效應(yīng)遠(yuǎn)大于短時(shí)電場。

Na+的存在降低了材料的體積電阻率,使高能電子更易注入并破壞基體,尤其在長時(shí)間電場作用下,熱積累和電子雪崩效應(yīng)加劇了破壞。

應(yīng)避免使用高Na+質(zhì)量分?jǐn)?shù)的氧化鋁填料,以維持材料的絕緣可靠性。

二、沿面閃絡(luò)電壓總結(jié)

關(guān)鍵結(jié)果:

1.總體趨勢:無論短時(shí)或長時(shí)電場,樣品的沿面閃絡(luò)電壓均隨Na+質(zhì)量分?jǐn)?shù)的增加而逐漸下降。

2.下降幅度:

短時(shí)電場(2000V/s):從32.2kV降至30.6kV,降幅約5%

長時(shí)電場(100V/s):從33.0kV降至29.3kV,降幅約11%

3.特殊現(xiàn)象:

Na+質(zhì)量分?jǐn)?shù)較低(0.02%-0.06%)時(shí),長時(shí)電場下的閃絡(luò)電壓高于短時(shí)電場。

Na+質(zhì)量分?jǐn)?shù)較高(0.08%-0.12%)時(shí),長時(shí)電場下的閃絡(luò)電壓低于短時(shí)電場。

主要結(jié)論:

Na+的存在對沿面閃絡(luò)性能同樣不利。

其機(jī)制是Na+降低了材料的表面電阻率,促進(jìn)了表面電荷的遷移和積聚,導(dǎo)致電場畸變和表面碳化。

Na+含量時(shí),體積電阻率下降可能使部分電子注入淺表層,反而短暫改善了表面電場分布;但高Na+含量時(shí),電子注入和熱破壞加劇,最終導(dǎo)致閃絡(luò)電壓在長時(shí)間下更低。

綜合結(jié)論

1.負(fù)面影響明確:氧化鋁填料中的Na+雜質(zhì),無論是對于材料本體的擊穿強(qiáng)度,還是對于表面的沿面閃絡(luò)電壓,均產(chǎn)生顯著的降低作用。

2.時(shí)間效應(yīng)顯著:在長時(shí)、慢速升壓(100V/s)的電場作用下,Na+對絕緣性能(尤其是擊穿強(qiáng)度)的劣化影響更為突出。這表明材料在長期工作電壓下的可靠性對Na+含量更為敏感。

3.材料選擇指導(dǎo):為保證環(huán)氧復(fù)合絕緣材料在高壓下的長期可靠性,應(yīng)嚴(yán)格控制氧化鋁填料中的Na+雜質(zhì)含量,優(yōu)先選用低Na+或無Na+的高純填料。


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